IoN 3B Plasma System
IoN 3B Plasma System
IoN 3B
等離子系統專為研發和小批量生產應用而設計。
等離子體系統中使用了緊湊、完全集成的低頻等離子體。
小型桌面設計專門用於以較低的擁有成本滿足客戶不斷變化的表面處理需求。
PVA TePla 是一種經過驗證且值得信賴的全球資源，可提供高質量、可靠、經濟高效且易於操作的氣體等離子系統。
它為各種應用提供了一些最先進和創新的解決方案。
典型應用：
- 表面清潔
- 表面活化
功能包括：
- 小腳印桌面設計
- 即插即用自安裝
- 45 毫米（1.77 英寸）直徑的觀察口
- 柔性電極
- 電腦觸摸屏
- 圖形用戶界面 (GUI)
- 用於快速和多功能步驟控制的配方編輯器
- 功能包括：
- 小腳印桌面設計
- 即插即用自安裝
- 45 毫米（1.77 英寸）直徑的觀察口
- 柔性電極
- 液晶觸摸螢幕和鍵盤的工業電腦 Windows 的操作系統
- 圖形用戶界面 (GUI)
- 用於快速和多功能步驟控制的配方編輯器
Technical Data
PROCESS CHAMBER
- Material: Aluminum
- Dimension: 140 mm W x 200 mm D x 110 mm H
- (5.5”x7.87”x4.33”)
- Volume: 3.07 L (0.11 ft3)
- Electrodes: Ceiling, single shelf
- Number of standard MFCs: 1
- Base Pressure: 0.07 mbar (50 mTorr)
- Pumping Time: 1 min (Pump dependent)
- Loading: Manual
PLASMA GENERATOR
- Frequency/power: (20 to 100) kHz/100 W
Technical Data
OPTIONS
- Quartz chamber, 100 mm Dia x 200 mm L
- Water cooled electrode
- (20 to 100) kHz/200 W
- Secondary plasma
- Faraday/Etch cage
- Additional MFCs
- Corrosive gas MFCs
- Process pressure control
- Light tower with R/Y/G/Buzzer
- Vacuum pump (Rotary vane, scroll)
Technical Data
MACHINE DIMENSION AND WEIGHT
580 mm W x 610 mm D x 350 mm H (23” x 24” x 14”)
59 kg (131 1b) (Varies with options)
FACILITIES REQUIREMENTS
Electricity: (110/220) VAC, 1f, 50/60 Hz, 3 wire, 2.3kW
Process Gas Input Pressure: 1.4 bar (20 psi)
Purge Gas Input Pressure: 1.4 bar (20 psi)
Compressed Air Input Pressure: 1.4 bar (20 psi)
SAFETY CERTIFICATION STANDARDS
CE Certified
EN 61010
EN 60204