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Semi-Auto Mask Aligner
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產品簡介
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基本規格
應用領域
Exposure light source: 350W、500W、1KW、2KW
Substrate Size: 2"~12"
Uniformity: ≦ 5%
Alignment Accuracy: ± 1um
Throughput: ≧ 70wph
應用範圍:
半導體(Semiconductor)
微機電(MEMS)
被動元件(Passive Component)
觸控面板(Touch Panel)
顯示器(Display Panel)
發光二極體
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基本規格
Exposure light source: 350W、500W、1KW、2KW
Substrate Size: 2"~12"
Uniformity: ≦ 5%
Alignment Accuracy: ± 1um
Throughput: ≧ 70wph
應用領域
應用範圍:
半導體(Semiconductor)
微機電(MEMS)
被動元件(Passive Component)
觸控面板(Touch Panel)
顯示器(Display Panel)
發光二極體